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【半導体】ASMLがEUV露光装置の開発状況を説明、量産導入は「10nm世代の論理LSIから」 [転載禁止]©2ch.net

1 :鰹節山車 ★@転載は禁止:2014/12/06(土) 10:18:53.23 ID:???0
ASMLがEUV露光装置の開発状況を説明、量産導入は「10nm世代の論理LSIから」
http://techon.nikkeibp.co.jp/article/EVENT/20141205/392860/


 オランダASML社 EUV Marketing Vice PresidentのNigel Farrar氏は「SEMICON Japan 2014」(2014年12月3日〜5日、東京ビッグサイト)の
「半導体エグゼクティブフォーラム」に登壇。
「EUV Lithography: Growth, Industrialization & Beyond」と題し、EUV露光装置の開発の進捗について説明した。

 Farrar氏はまず、10nm世代以降の論理(ロジック)LSIを製造するうえでは、高い解像性能が得られ、
複雑な回路パターンにも対応できるEUV露光が欠かせないと強調した。10nm世代の論理LSIは
「液浸露光(のマルチパターニング)でも製造できるが、プロセスの複雑さが増しコストも増える」。
7nm世代にいたっては、液浸露光のステップ数は33にも達し、これをEUV露光では9ステップに抑えられるとした。

 現在、同社は量産用EUV露光装置「NXE:3300B」を計7台、ユーザー企業に納入済み。
加えて4台を製造中で、2014年10〜12月期に1台が出荷されるという。並行して「NXE」シリーズの第4世代機となる量産用
EUV露光装置「NXE:3350B」のインテグレーション(組み立て)を進めており、
台湾TSMCから2015年に納入する2台を受注済みである(関連記事1http://techon.nikkeibp.co.jp/article/NEWS/20141128/391340/)。

 納入済みのNXE:3300Bについては、2つの顧客サイトで1日当たり500枚を超えるウエハー露光に成功したという。
ウエハー処理枚数については「2015年に1日当たり1000枚、2016年に同1500枚を実現する」。
1時間当たりのスループットにならすと、2015年に約40枚/時、2016年に約60枚/時を目指すことになる。
重ね合わせ精度については、ウエハー全面で1.1nm以内、装置間で4nm以内と「有望な結果を得ている」。
以下ソース

2 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 10:20:30.16 ID:lWUOdlpU0
2

3 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 10:23:42.34 ID:zVlvkhru0
えっと……数年ぶりにビジネスnews+に迷い込んでしまったか……

4 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 10:29:07.91 ID:yeokrrAP0
 限りない微細化のニーズに応えるため,露光システムを変革するのがEUV露光である.
現在使われている露光装置は透過型のレンズを用い,短波長化とともに光の吸収が急激に増大し,
それに伴う諸問題の解決が容易でないこと,膨大な開発費を掛けても微細化の1世代しか適用できない
ことから,反射型レンズを用い波長を一桁短縮する13.5nmのEUVリソグラフィーの開発に焦点が
当てられた.

5 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 10:45:04.82 ID:RerbXBFR0
TSMCに初めて納入したやつがセルフバーニングしちゃったとか言ってたがどうなったん?

6 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 11:19:15.62 ID:C5zcHs2W0
さっさと低電圧3Dマルチコアに進めよ
仕事が遅すぎ

7 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 11:19:40.99 ID:fx1QECSl0
EUVだと露光っつっても面倒だよな
10nm以下のプロセスのウェハーを見ても電子顕微鏡でもよく見えない
あんまり頑張るとX線出て全部感光しちゃうし

8 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 11:21:09.14 ID:fWwEFSNS0
>>6
お前がやれ

9 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 11:23:34.77 ID:iMy+Yy1n0
もう日本製は時代遅れなの?

10 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 11:39:07.50 ID:OYWEOPEU0
>>9
かつてのシェア8割から2割に転落して最早死に体

11 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 12:30:32.01 ID:iMy+Yy1n0
そうなんだ知らんかった…

12 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 12:31:13.61 ID:sO7+TcRr0
乳輪が10mmって小さすぎだろ

13 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 12:33:58.02 ID:d8/wx5sd0
マルチコアでの底上げは限界
AMDのFXシリーズの失敗で自明。
マルチスレッドを多用するアプリは少数だから。

14 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 12:42:36.95 ID:o5r/TNch0
なんだこのパルスのファルシのルシがコクーンでパージ的な感覚

15 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 12:45:57.20 ID:oKQhMArg0
最先端技術でオランダに負けたジャップw
ジャップの凋落が止まらないw

16 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 12:56:59.06 ID:oKQhMArg0
しかしニコンとキャノンってアホなの?w
普通、ここまで追い詰められたら連合して戦おうくらい考えるもんじゃねーのw

17 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 13:00:31.68 ID:C5zcHs2W0
>>13
処理のほとんどがループに費やされる重いアプリではマルチコアこそ最善

プログラマーの惰性が根底にある

18 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 13:40:40.06 ID:tsu/eUu70
ニコンを打ち負かしたのはオランダか
以外にも韓国ではなかった

19 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/06(土) 18:05:17.34 ID:FA+Z3iYU0
エルピーダもASMLに切り替えろといった話があったような
ニコン縛りも倒産の遠因に挙がっていたはず

20 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 00:15:58.31 ID:hiIxn2X50
>>1
偏差値50私立理系新設バイオ大学へ入学して卒業すると、無職の私を見て親は混乱、動揺、狼狽した。
親が混乱、動揺、狼狽する姿を見たくないなら、中学生は進学高校へ、高校生は上位大学へ入学したほうがいいよ。
web-n15-00582
http://i.imgur.com/ADzunyh.gif
http://atsites.jp/bio20130221/index.html
http://kanae.2ch.net/test/read.cgi/kouri/1415578630/6-

21 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 00:17:01.23 ID:hiIxn2X50
>>20
●サイコパスとは無関係になれ その72

・中瀬ゆかり症候群の特徴

不良へキチンキチンと挨拶
筋肉金持ちを巧妙に回避
モヤシ金持ちへデカイ態度で求婚

これは快楽殺人鬼サイコパスの中瀬ゆかり症候群だ。
周囲に殺人鬼の正体を伝えると、自分が逃げ遅れるので、そのまま無関係になろう。
中瀬ゆかり症候群は人望の厚い人だ。

22 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 00:18:10.81 ID:hiIxn2X50
>>20
●校風 その93

偏差値50バイオ大は、無賃で根幹実験を手伝う中瀬ゆかり症候群が必要だ。
最終的に、中瀬ゆかり症候群がモヤシ金持ち坊ちゃんの私に損させる決断をした。
私の父が札束を積んで弁護士を雇えば話は別だが、もはや私は無職破滅が決定だ。
とっとと自主退学すればよかった。自立手段を獲得するには、中堅上位大学がいい。

23 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 04:42:32.28 ID:7Clp0j0m0
【企業買収】キヤノン、半導体製造技術開発の米社を買収[14/02/14]
http://anago.2ch.net/test/read.cgi/bizplus/1392341575/
2014/02/27
【半導体】「日本連合」、反転攻勢--東芝とキヤノン、次世代半導体開発で提携 [02/27]
http://anago.2ch.net/test/read.cgi/bizplus/1393458495/

24 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 04:45:07.65 ID:7Clp0j0m0
週刊東洋経済 2013年9月14日号
半導体露光装置で復権期す、ニコン 背水の大勝負
http://www.toyokeizai.net/shop/magazine/toyo/detail/BI/b93361d62855ee693699af833630c090/
http://www.toyokeizai.net/shop/magazine/toyo/docs/tachiyomi/img/cover9900111346_02.jpg
牛田一雄/ニコン副社長
「半導体露光装置でライバルに倍返しだ」

25 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 04:46:53.09 ID:7Clp0j0m0
http://mikke.g-search.jp/QTKW/2013/20130914/QTKW20130914TKW031.html
カンパニー&ビジネス10年の雪辱なるか半導体露光装置で復権期す ニコン 背水の大勝負半導体露光装置
でかつて世界に君臨したニコン。10年前にASMLに逆転を許し、その差は開く一方だった。だが、ライバルが
次世代技術の開発に苦戦する中、形勢挽回のラストチャンスが訪れた。

26 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 19:33:46.04 ID:Qs/PPb870
ステッパーで今一番メジャーな露光方式はなんなの?
ArF液浸?

27 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 19:39:12.29 ID:/wrRTkgl0
タイトルで何を言ってるのか全くわからんスレだ。

28 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 19:39:27.96 ID:NkkUWHEp0
とうとう10nmが見えてきたかすげーな

29 :名無しさん@0新周年@転載は禁止:2014/12/07(日) 19:53:22.90 ID:BJ3gwvDc0
>>16
まあどこの半導体製造装置メーカーwが受けようと
圧倒的に儲かるのは純利益1兆はるかに超えるインテルだがなw

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